Las ventajas de los procesos de grabado en húmedo son el empleo de equipo más sencillo, velocidades elevadas de grabado y alta selectividad. Sin embargo, tienen varias desventajas.
El grabado en húmedo es generalmente isotrópico, por lo que las sustancias químicas grabadoras eliminan material de sustrato debajo del material de enmascaramiento.

Además, el grabado en húmedo requiere grandes cantidades de sustancias químicas grabadoras debido, por un lado, a que deben cubrir por completo el material de sustrato, y por otro, a que tienen que reemplazarse constantemente para mantener la velocidad inicial de grabado. En el grabado en húmedo, los costos de las sustancias químicas y de la eliminación de desechos son, en consecuencia, extremadamente altos.

Algunas ventajas del grabado en seco son su capacidad de automatización y el bajo consumo de reactivos. El grabado en seco (e. g., grabado con plasma) es menos costoso en cuanto a la disposición de los productos en comparación con el grabado en húmedo.

Un ejemplo de grabado en seco exclusivamente químico es el grabado con plasma. Una desventaja de las técnicas de grabado exclusivamente químicas es que no operan con alta anisotropía debido a que las especies reactivas pueden reaccionar en cualquier dirección e introducirse debajo del material de enmascaramiento.

La anisotropía es cuando el grabado ocurre exclusivamente en una dirección.

Esta propiedad es útil cuando es necesario retirar material únicamente en una dirección vertical, debido a que el material cubierto por el material de enmascaramiento no se elimina. En casos en los que la elevada anisotropía es crucial, se emplean técnicas de grabado en seco que sólo usan remoción física o una combinación de remoción física y reacciones químicas. Otra desventaja del grabado en seco es que emplea equipo más complejo y es de menor selectividad en comparación con las técnicas de grabado en húmedo.