Thierry Plasma Etcher

Como se mencionó anteriormente, el grabado en seco y el grabado en húmedo son los dos tipos principales de grabado. El grabado en húmedo incluye múltiples reacciones químicas.

Este proceso consiste en las siguientes tres etapas:

  1. Difusión del líquido grabador hacia el material (que requiere ser grabado)
  2. Reacción entre el líquido grabador y el material
  3. Desorción de los subproductos de la superficie

Un ejemplo de grabado en seco es el grabado con plasma.

El grabado con plasma en los sistemas de grabado con plasma consta de las siguientes seis etapas:

  1. Producción de las especies reactivas en un plasma
  2. Difusión de las especies reactivas sobre la superficie del material
  3. Adsorción de las especies reactivas en la superficie del material
  4. Reacción (química) entre las especies reactivas y el material, y formación de subproductos volátiles
  5. Desorción de los subproductos volátiles
  6. Difusión de estos subproductos en el bulto del gas

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