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Thierry Plasma Etcher

El grabado es un proceso que consiste en la eliminación de material de la superficie de un material. Los dos tipos principales de grabado son el grabado en húmedo y el grabado en seco (e. g., grabado con plasma).

El proceso de grabado que involucra el uso de reactivos químicos o agentes de grabado líquidos para retirar material de sustrato se llama grabado en húmedo. En el proceso de grabado con plasma, también conocido como grabado en seco, los plasmas o gases de grabado se emplean para eliminar el material de sustrato.

El grabado en seco genera productos gaseosos, los cuales deben difundirse en el bulto del gas. Hay tres tipos de grabado en seco (e. g., grabado con plasma): reacciones químicas (usando plasma o gases reactivos), remoción física (generalmente por transferencia de momento), y una combinación de reacciones químicas y remoción física.

Por otro lado, el grabado en húmedo es sólo un proceso químico.